Ionestrålekjegler

SIKAIDA Ion Beam Cones er kjernekomponenter i ionestråleimplantasjons- og transmisjonssystemer. Laget av avanserte keramiske materialer med høy renhet og behandlet gjennom presisjonssprøytestøping og høytemperatursintring, har de ekstremt lavt innhold av urenheter, høy temperaturbestandighet og stabil dimensjonsnøyaktighet. De kan maskineres til komplekse geometrier for å møte ekstremt høye toleransekrav, noe som gjør dem egnet for høyytelses halvlederionimplantasjonsprosesser.

Som en profesjonell produsent i Kina tilbyr SIKAIDA pålitelige, kostnadseffektive og tilpassbare ionestrålekjegler til kunder over hele verden innen halvleder, flatskjerm, optikk, mikroelektromekaniske systemer (MEMS) og solenergi. SIKAIDA er en pålitelig langsiktig leverandør og dedikert produksjonsanlegg for avanserte ionestråleprosesskomponenter.

Materialer og produksjon

1. Materialer

Ion Beam Cones bruker materialer inkludert aluminiumoksyd (Al₂O₃) med en renhet ≥99,9 %, silisiumnitrid (Si₃N₄) med en renhet ≥99,5 %, zirkoniumoksid (ZrO₂) med en renhet ≥99,9 %, og 99,8 % smeltet silika. Alle materialer oppfyller de strenge renhetsstandardene til halvlederindustrien og er egnet for ytelseskravene til ulike applikasjoner.

2. Produksjonsprosess

Produksjonsprosessen omfatter presisjonssprøytestøping, høytemperatursintring, CNC presisjonsmaskinering, polering på speilnivå og automatisert rengjøring og testing. Hver prosess er strengt kontrollert for presisjon og kvalitet for å sikre at sluttproduktet oppfyller industristandarder og kundekrav.

Viktige produktparametre

1. Dimensjonsnøyaktighet

Ionestrålekjegler har toleranser kontrollert innenfor ±0,05 mm, overflateruhet Ra≤0,4μm, innvendig hullavsmalningsnøyaktighet ±0,02mm, koaksialitet ≤0,03mm og perpendikularitet ≤0,02mm. Denne ekstremt høye dimensjonsnøyaktigheten sikrer effektivt presisjonen av ionestråleoverføring.

2. Overflatebehandling

Overflatebehandlinger inkluderer mekanisk polering for en speilfinish, UV-herdet belegg for å forbedre overflateegenskapene, ripebestandige belegg for å forbedre slitestyrken, og syrebeising og passivering for å fjerne urenheter og forbedre stabiliteten. Egnede behandlingsmetoder kan velges basert på søknadskrav.

3. Ytelsesindikatorer

Ionestrålekjegler opererer innenfor et temperaturområde på -196 ℃ til +800 ℃, og sikrer stabil drift i ekstreme temperaturmiljøer. De har en volumresistivitet ≥10¹⁴Ω·cm og en overflateresistivitet ≥10¹²Ω, og viser utmerkede isolasjonsegenskaper. De har også enestående motstand mot plasma og kjemisk korrosjon, slik at de kan tilpasse seg komplekse prosessmiljøer.

Kjernefordeler

1. Ultrahøy renhet: Råmaterialets renhet overstiger 99,9 %, minimerer forurensning av halvlederskiver, sikrer stabil elektrisk ytelse til enheter og oppfyller de strenge renhetskravene til halvlederproduksjon.

2. Ekstremt høy geometrisk nøyaktighet: Sikrer konsistente produktdimensjoner under masseproduksjon, med avsmalningsfeil kontrollert innenfor ±0,05 mm og rundhetsfeil ≤0,02 mm, som nøyaktig samsvarer med installasjons- og brukskravene til ionestråleoverføringssystemer.

3. Speillignende overflatekvalitet: Overflateruhet Ra≤0,4μm, som effektivt reduserer ionestrålespredning, forbedrer jevnheten i ionestråleoverføring og optimaliserer implantasjonsnøyaktigheten til halvlederenheter ytterligere.

4. Bredt temperaturområde stabilitet: Fungerer stabilt i dype kryogene til høye temperaturer. Materialet har en ekstremt lav termisk ekspansjonskoeffisient, opprettholder utmerket dimensjonsstabilitet selv med temperaturendringer, og forhindrer ytelsespåvirkning fra temperatursvingninger.

5. Utmerket isolasjons- og korrosjonsbestandighet: Forhindrer effektivt ladningsakkumulering under ionestråleoverføring og motstår sterke syrer, sterke alkalier og ulike plasmakorrosjoner, noe som sikrer langsiktig stabil drift i komplekse prosessmiljøer.

Tilpassede tjenester

Produktmodeller og størrelser kan tilpasses i henhold til ulike prosesskrav. Støttede tegneformater inkluderer STP, STEP, IGS, XT, DXF, DWG, PDF og fysiske prøver. Angående leveringstid er prøvelevering 4-7 uker, og batchproduktlevering er 8-12 uker. Kvalitetssystemet vårt overholder ISO9001:2015, SGS RoHS, REACH og SEMI-standarder, og sikrer omfattende produktkvalitet og leveringseffektivitet.

Bruksområder

Ion Beam Cones er mye brukt i flere felt, inkludert ioneimplantatorer i halvlederproduksjon, prosesseringsutstyr i flatpanelskjermer, ion beam deposition (IBD) og ion beam etsing (IBE) systemer i produksjon av optiske enheter, mikroelektromekaniske systemer (MEMS) produksjon for implantat-doping, utstyr for implantat-doping, semiconductor devices such as insulated-gate bipolar transistors (IGBTs) and power MOSFETs.

Ofte stilte spørsmål:

Q1: Hvilke materialer brukes vanligvis i Ion Beam Cones?

A1: Vi bruker primært avanserte keramiske materialer som høyrent aluminiumoksyd (Al₂O₃), silisiumnitrid (Si₃N₄) og zirkoniumoksid (ZrO₂). Disse materialene har ekstremt høy renhet, utmerket motstand mot høye temperaturer og stabile elektriske egenskaper.

Q2: Kan UET tilby tilpassede spesifikasjoner og overflatebehandlinger? 

A2: Ja. UET kan tilpasse størrelse, avsmalning, materialtype og overflatebehandling av kjeglene i henhold til dine prosesskrav. Vi har omfattende produksjonserfaring og kan møte kundenes spesifikke applikasjonskrav.

Q3: Hvordan er presisjonen og kvaliteten til Ion Beam Cones garantert?

A3: Vi tar i bruk ISO9001:2015 kvalitetsstyringssystem og er utstyrt med høypresisjonstestingsutstyr, inkludert en koordinatmålemaskin, overflateruhetstester og røntgenfluorescensspektrometer, for å sikre at hver gruppe produkter oppfyller strenge industristandarder.

Q4: Hva er leveringssyklusen?

A4: Prøveleveringssyklusen er 4-7 uker, og batchproduktleveringssyklusen er 8-12 uker. Den spesifikke syklusen avhenger av produktets kompleksitet og bestillingsmengde.